ブックタイトルメカトロニクス11月号2020年

概要

メカトロニクス11月号2020年

卓上型真空はんだリフロー装置／酸化膜還元装置、他ユニテンプジャパン（株）E 半導体製造装置、エレクトロニクス実装関連卓上型真空はんだリフロー装置／酸化膜還元装置　ギ酸／水素還元に対応した卓上型真空はんだリフロー装置。特徴は、①フラックスレスはんだ（還元方式）対応（フラックス入りはんだにも対応可能）、②卓上型サイズながら、最大到達温度400 ℃を実現（オプション時：最大到達温度500 ℃）、③大気リフロー、窒素ガスパージリフロー、真空リフローに標準対応、④ギ酸還元リフロー、フォーミングガス（水素＋窒素）リフローにオプションで対応可能、⑤ワーキングエリアがガスシールドされているため、コンタミを気にするプロセスや、その他のクリチカルなプロセスに使用することが可能、など。　小規模の実験や試作などで、高い精度で温度制御をしつつ、手軽にリフローをしたい方のために開発されたホットプレート。特徴は、①ギ酸還元や真空などには対応していないが、窒素パージや16stepの温度プログラム機能など、高い性能はそのままに必要な機能だけを搭載、②セットアップも簡単で、手軽に幅広い用途で活用できる、③ 250 ℃まで対応可能なカートリッジヒータは、P.I.D 制御なのでオーバーシュートの無い最適な温度制御が行える上、プレートの面内温度差も± 1℃以内に制御、④繰り返し精度良く、むらのないはんだ付けを実現、など。RSS-210-SRSS-110-S卓上型真空はんだリフロー装置高精度プログラマブルホットプレート　ギ酸／水素還元に対応した卓上型真空はんだリフロー装置／酸化膜還元装置。特徴は、①フラックスレスはんだ（還元方式）に対応、②最大200 ×200mm 基板に対応、③外形寸法：W430× D295 × H290mm、④卓上型サイズながら最大到達温度400 ℃を実現、⑤大気リフロー、窒素ガスパージリフロー、真空リフローに標準対応、⑥ギ酸還元リフロー、フォーミングガス（水素＋窒素）リフローにオプションで対応可能、⑦ワーキングエリアがガスシールドされているため、コンタミを気にするプロセスやその他のクリチカルなプロセスに使用可能、など。●ユニテンプジャパン（株）　東京都町田市原町田2-6-13HP-220　フロントローディング式の真空プロセス高速加熱炉。特徴は、①φ 150mm（6 インチ）ウエハ対応、②外形寸法：W503 × D503 × H570mm、③卓上型サイズながら最大到達温度1000 ℃を実現、④窒素ガスパージ、酸素ガスパージ、フォーミングガス（水素＋窒素）パージなどに対応、⑤ワーキングエリアがガスシールドされているため、コンタミを気にするプロセスやその他のクリチカルなプロセスに使用可能、⑥上下48 本のIR（赤外）ヒータによって加熱が行われるため、正確で高速な加熱を実現、⑦適切な真空ポンプとの組み合わせにより、最大0.1Pa（10-3hPa）の真空環境を実現できる、など。RTP-150真空プロセス高速加熱炉　トップローディング方式を採用した真空プロセス高速加熱炉。特徴は、①φ300mm（12 インチ）ウエハ対応、②外形寸法：W504 × D504 × H830mm、③卓上型サイズながら最大到達温度1000 ℃を実現、④窒素ガスパージ、酸素ガスパージ、フォーミングガス（水素＋窒素）パージなどに対応、⑤ワーキングエリアがガスシールドされているため、コンタミを気にするプロセスやその他のクリチカルなプロセスに使用可能、⑥上下48 本のIR（赤外）ヒータによって加熱が行われるため、正確で高速な加熱を実現、⑦適切な真空ポンプとの組み合わせにより、最大0.1Pa（10-3mbar）の真空環境を実現できる、など。　『RSS-210-S』のオプションで、チャンバー内のリアルタイム観察／記録が可能な10X 光学ズームマイクロスコープ。特徴は、①『RSS-210-S』本体の石英ガラス製のぞき穴（10mm）を透過しても、シャープかつクリアに見える、②カメラ直筒（AZ9C）と三眼鏡筒（AZ9T）の2タイプを用意、③ PCとカメラユニットを接続するだけで簡単に取り付けできる、④本体のプログラム運転と同期して観察／記録が可能、⑤データは静止画だけでなく、動画としてPC に保存可能、⑥作動距離（WD）90mm、光学10 倍ズーム、分解能3 μ m を実現、など。VPO-1000-300AZ9T ／ 9C真空プロセス高速加熱炉10X 光学ズームマイクロスコープ請求番号L5144請求番号L5145請求番号L5146請求番号L5147請求番号L5148請求番号L514930 MECHATRONICS 2020.11