メカトロニクス10月号2012年 page 11/60

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MECHATRONICS 2012.10 11所 在 地：U R L：事業内容：埼玉県春日部市http://www7.ocn.ne.jp/~mac/・産業用ロボット・半導体試験装置、半導体検査および半導　体搬送装置を含む、半導体製造装置の設　計、製造、改造....

MECHATRONICS 2012.10 11所 在 地：U R L：事業内容：埼玉県春日部市http://www7.ocn.ne.jp/~mac/・産業用ロボット・半導体試験装置、半導体検査および半導　体搬送装置を含む、半導体製造装置の設　計、製造、改造、組立、販売、保守および輸出入業務・半導体製造装置に関するソフトウエアの開発および保守、保全・電子部品、コンピュータを組み込んだ制御盤の設計、製作、販売・太陽電池用再生ウエハの製造、販売、などマック産業機器株式会社・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・ンチウエハで、クリーン度はクラス100 程度を実現しています。　装置寸法は、W1,300×D1,800×H2,000mm（300mm）／ W1,100×D1,400×H2,000mm（8インチ）で、機械重量は600kg 以内になります。　次に、アルカリ対応スピン洗浄装置『ME500-1100』をご紹介します（写真3）。この装置は、ワークを本体に手動でセットし、真空吸着させてスピン回転させながら、二液体洗浄、超音波洗浄、N2ブロー乾燥を行う装置です。洗浄ワークは、PETフィルムおよびガラス基板：50 ～300 角 t＝0.7 ／ 1.1mm、8 ／12インチウエハ：オプションで各種ワークに対応します。　主な仕様としては、洗浄水：アルカリ／純水／水素溶解水／オゾン水、対応回転数：MAX 3000rpm、純水供給部：0.3Mpa 以上、N2ブロー乾燥：N2ブロー乾形寸法、外形寸法：W1,180×D1,350×H1,610mm、などになります。　それから、8インチウエハ用に薬液槽を2 槽（SC1、SC2）備えた、ケミカル処理および2段階リンス洗浄処理をマニュアルにて行う3 次元実装ウエハケミカル洗浄装置『ME100』をご紹介します（写真4）。この装置は、3次元実装のためのSi貫通電極（TSV：throughsiliconvia）技術工程での洗浄に最適です。特徴としては、①処理枚数は1～3 枚の少量対応のため、研究／実験の用途に最適、② 100V 電源で設置に制約なし、③コンパクトなので1㎡あれば設置可能と経済的、④純水リンスはカスケード方式による純水使用量を抑えた低コスト、⑤ケミカル温度をコントロールできる、⑥比抵抗計によりリンス効果を判断、⑦ウエハカセットは傾斜をもたせ、ウエハ表面側に液残留を防止、⑧将来、2 槽（下部タンク共）追加可能なスペースを確保できる、⑨水切り用エアーガン付き、⑩シャワーノズルでケミカル槽を簡単洗浄できる、などが挙げられます。　また、太陽電池関連の装置についてもいくつかご紹介します。まずは、ガラス基板洗浄装置『ME-6500』です（写真5）。この装置は、薄膜太陽電池（CIGS 系）のガラスの洗浄装置で、前工程より入口コンベアへガラスの供給を受け、入口コンベア→シャワー→ロールブラシ→ 2 流体→純水リンス（オプションとしてメガソニック）の順序で洗浄し、水切り乾燥を行って静電除去した後、出口コンベアに送り出す工程を枚葉式で行います。　主な仕様としては、装置寸法：W1,500×D3,600×H1,350mm、洗浄幅：400mm（有効幅360mm）、洗浄物：ガラス基板 最小L75×W75mm ／ 最大L300×W400mm（0.5～1.1t）、処理能力：20sec／ 1基板、などになります。　それから、今年の4月に太陽電池用シリコンウエハセパレータ『MB-2000』を新たに開発しました（写真6）。この装置は、粗洗浄後の積み重なった140～200μm のシリコンウエハを、特殊水中吸着ヘッドを使いながら上下の送りローラにより、ウエハを1 枚ずつ送り出し、ウエハキャリアに収納する装置です。装置工程は、①積み重なったウエハをカセットに挿入し、装置にセットします。水槽内で積み重なったウエハを水流制御により??間をつくり、特殊水中チャックにて1枚づつ吸着取り出しを行い、ウエハ引き上げコンベアで挟み込み空中に引き上げます。②引き上げられたウエハは、搬送コンベア上でファイバセンサにより、割れ／欠けの検査を行います。不良品はコンベア上で分離し、回収BOXに送られます。③良品のウエハはウエハキャリアに収納されます。キャリアは送られてくるウエハのタイミングに合わせ、1ピッチずつ上昇し、棚に挿入します。④空キャリアは投入コンベア上にセット、自動で移載され、バスケットが満杯になると排出され、空のウエハキャリアが投入されます。　主な仕様は、装置寸法サイズ：W1,100×D3,550×H1,500、ワーク：粗洗浄後の太陽電池用シリコンウエハ 156± 0.5mm、156.5± 0.5mm ／ 125±0.5mm、126±0.5mm ／ 厚み140 ～200μm、処理能力：1枚／2秒、などになります。　今後の展開についてお聞かせ下さい川嵜：引き続き、半導体／液晶関連分野と太陽電池関連分野の2 本柱で事業を展開して行きたいと考えています。現状では、半導体／液晶関連分野の事業がウエイトを占めていますが、徐々に太陽電池関連も再生エネルギー関連分野として事業の拡大を図っていきます。　再生エネルギー関連分野としては、太陽電池関連だけでなく、風力発電や水力発電などにも取り組んで行き、事業を広げて行きたいと考えています。風力発電や水力発電などに関しては、地産地消に対応するような小型タイプの装置を考えており、課題も多く抱えていますが一つずつクリアしながら準備を進めています。また、太陽電池関連についても薄膜シリコン太陽電池用ガラスエッチング装置の開発を進めており、製品化のメドも立っている状況です。　それから、半導体／液晶関連分野については、今、注目されている3次元実装に関するTSV技術工程の洗浄装置などに力を入れていきます。特にロボット付きの装置に注力し、大手企業が高価な装置を開発するなか、当社はコンパクトでコストを出来るだけ抑えた装置の開発を進めて行きたいと考えています。本日はお忙しい中ありがとうございました。写真4　3 次元実装ウエハケミカル洗浄装置『ME100』写真5　ガラス基板洗浄装置『ME-6500』写真3　アルカリ対応スピン洗浄装置『ME500-1100』写真6　太陽電池用シリコンウエハセパレータ『MB-2000』