ブックタイトル実装技術12月号2017年

概要

実装技術12月号2017年

12■ pH中性フラックス洗浄剤 一相タイプ　『 HYDRON SE 220』　世界の電子機器製造・半導体業界において、高精密な洗浄剤、技術サービス、セミナーソリューションを提供するゼストロンが開発した、パワーエレクトロニクスやプリント基板洗浄に最適な水系の浸漬工程用一相タイプ pH値中性洗浄剤。　新しく開発された技術をもとに、『HYDRON SE 220』はリードフレーム、ディスクリートデバイス、パワーモジュール、パワーLED、フリップチップやCMOSといった各種の半導体パッケージからダイ接合時などに発生するフラックス残渣を除去。また、プリント基板における低スタンドオフ部品でのフラックス洗浄にも優れた性能を発揮。一相構造のため、工程管理が簡素化され、リンス性も良好となり、ワイヤボンディングやモールド処理などの後工程に最適な表面状態に仕上げることが可能。ｐH値が中性となるため、材料適合性にも優れている。　特徴、及び、他の洗浄剤と比較しての利点は、下記のとおり。①一相構造のため工程管理が容易で、浸　漬工程において優れた性能を発揮②リンス性が良好で残渣が発生しない③pH中性のためチップやパシベーション　などへの材料適合性に優れる④銅表面をしみなく活性化し、ワイヤボン　ディング・樹脂封止・接着剤などの後工程　に適合。また活性化された表面を一定　期間保持⑤引火点がなく、洗浄設備に防爆仕様なし　で使用可能⑥水系で生分解性⑦ハロゲンフリー成分の組成であるので　環境に優しく、低臭気⑧循環式濾過にて洗浄液の長寿命性能が　もたらされる⑨EU基準（RoHS1＆2、WEEE）に100　％適合⑩SIN、SVHCリストに従い、高懸念物質　を使用していない　　　　 　　　　　　　　　　　　 ＜請求番号 M7007＞pH中性フラックス洗浄剤 一相タイプゼストロンジャパン（株）PR