実装技術4月号2013年特別編集版 page 25/50
このページは 実装技術4月号2013年特別編集版 の電子ブックに掲載されている25ページの概要です。
秒後に電子ブックの対象ページへ移動します。
「電子ブックを開く」をクリックすると今すぐ対象ページへ移動します。
概要：
31同工法は独自の微細粒子製造技術で、物理的製造法や化学的製造法などと比較し、分散性、純度、ナノ効果、保管性、量産性、コストといった点ですぐれ、ナノ粒子径は1?10nm（パウダー、液体）。粒子濃度も＜2,000ppm....
31同工法は独自の微細粒子製造技術で、物理的製造法や化学的製造法などと比較し、分散性、純度、ナノ効果、保管性、量産性、コストといった点ですぐれ、ナノ粒子径は1?10nm（パウダー、液体）。粒子濃度も＜2,000ppmで、使用母材もパウダーなら全て可、液体は油／水、となっている他、特徴として、①物理的成膜法が使用可能（スパッタ法、真空蒸着法など）、②ターゲット材料を選ばない（金属、酸化物、有機化合物など）、③ナノ金属形成の環境は酸素、窒素 雰囲気、④ナノ粒子の大きさ、濃度を制御可能（成膜速度、母材撹拌速度（回転数））、といった点が挙げられる。 この技術により、不純物のない微粒子化を実現し、従来必要としていた化学系バインダなしに、母材に直接ナノ粒子を付着形成する。高純度であるため食品にも使用でき、また均一なサイズ並びに活性剤を必要としないなどの高品質な点、高い歩留まりと簡便な製造方法といった高い生産性から、多くの来場者の注目を集めていた。 （株）アドバンテストでは、新製品として、電子ビーム露光装置『F7000』を紹介していた。同製品は、電子ビームを用いて1Xnmノードのパターンを描画する装置。キャラクタ・プロジェクション（CP）技術によって、高い解像性能、良好なパターン特性、高スループットを実現する他、装置の安定化に寄与するセルフクリーニング技術の採用などによって、ウエハやナノインプリント用テンプレートなどさまざまな材質、サイズ、形状の基板に描画可能となっている。露光対象基板はウエハ（300mm、200mm、6?3インチ）、ガラス基板（6025）。露光方式はCP 露光方式とVSB 露光方式。研究開発から量産まで対応可能な構成となっている。 併せて、こちらも新製品となるウエハ用MVM-SEM『E3310』も紹介していた。同製品は多次元観察・測長走査型電子顕微鏡（Multi Vision MetrologyScanning Electron Microscope）で、1Xnmノードのプロセス開発及び22nm世代以降の量産デバイス向けに開発されたもの。デュアル・アーム真空ロボットを採り入れた高速搬送システムや、低振動プラットフォームなどの採用によって、シリコン・ウエハ、アルチック・ウエハ、クォーツ・ウエハ、シリコンカーバイド・ウエハなど様々なウエハを高精度、かつ高スループットで測定する。 ライカマイクロシステムズ（株）では、『トータル『カイゼン』ソリューション』というテーマの下で展示を行い、高い品質と使いやすさで作業効率を改善する試料作製装置から、見やすさと高い操作性で作業環境の改善に貢献する顕微鏡システム、並びに画像処理までを行う製品のフルラインナップを紹介していた。 多用なニーズに応える高真空コーティング装置『ライカEM ACE600』は、FE-SEM、及びTEMアプリケーションにおける高分解能解析用に、非常に薄く粒状性のよい導電性の金属及びカーボンのコーティング膜を成膜可能。基本構成としてオイルフリーの高真空排気システム内蔵、水晶膜厚測定ユニット、回転電動ステージを含む。 ターゲット断面試料作製システム『ライカ EM TXP』は、SEM、光学顕微鏡及びTEM 観察用試料に向け切断／研磨専用に開発された装置。微小ターゲットの正確な配置と調製、高性能実態顕微鏡による観察の実施などの特徴を有し、ターゲットを見失うことが多く時間を要しがちだった、試料の特定個所を狙った正確なミリング、切断、研削、研磨作業を、簡単、かつ短時間に調製できる。 特に硬組織形態学と産業分野での使用に適した全自動万能型回転ミクロトーム『ライカ RM2265』はさまざまなタイプの標本から高品質な切片を作るように設計された装置。6 通りのカッティングモードの採用や、コンパクトな設計などによって、高い効率性を実現している。 デジタルマイクロスコープ『ライカDVM2500』は、Leica VZ-lineズームレンズと高速なFireWireデジタルカメラの組み合わせにより、高レベルの画質を実現した製品。MicrosoftWindows operating systems の採用により、企業・施設ごとのネットワークガイドラインに対応した柔軟な利用が可能。人にやさしいLEDイルミネーションやあらゆるアプリケーションに適応可能なCCDデジタルカメラの採用、などの特徴を有している。 FusionOptics 実体顕微鏡『ライカM205C』は、高解像とすぐれた立体感を両立させる『FusionOptics』を搭載した装置。最大ズーム20.5×で、1×対物レンズの使用により7.8 ?160倍、2×対物レンズでは最大320 倍までの観察が行える。 コンタミ／ 粒度解析システム『Cleanliness Expert』は、製造工程から部品の品質を定量的にモニタするのに役立つ品質保証システムで、同社の顕微鏡、デジタルカメラ、画像解析システムを含むトータルソリューションで、コンタミを反射性／非反射性に自動分類し、コンタミの発生源やコンタミから推測できる潜在的リスクの評価に役立つ、などの特徴を有する。 同展示会の次回開催は、2014年1月29日（水）?1月31日（金）、東京ビッグサイトにおいて予定されている。ライカマイクロシステムズ（株）のブース（株）アドバンテストのブースNPP製造装置『NPP3012』